광주특허출원 조회 [특허청 특허출원비용 변리사무료상담] 성진스크린, 하프 미러를 이용한 장식유리 제조방법 특허등록
특허등록의 명칭 : 하프 미러를 이용한 장식유리 제조방법
(21) 출원번호/일자 1020120067284 (2012.06.22)
(71) 출원인 (주)성진스크린 (11) 등록번호/일자 1013471210000 (2013.12.26)
(65) 공개번호/일자
(11) 공고번호/일자 (2014.01.03)
초록
본 발명은 하프 미러를 이용한 장식 유리 제조방법에 관한 것으로 건축용이나 인테리어 및 가전제품 등에 채용되는 장식 유리의 제조공정을 단순화하고, 대량생산에 적합하며, 공정비용을 낮추면서도 유리 고유의 심미감을 살리면서도 다양한 문자나 기호, 문양 등을 구현할 수 있도록 하는 것이다.
이를 위한 본 발명은 투명유리를 세척장치에 투입하는 제1단계와, 투입된 투명유리를 1차 세정하는 제2단계와, 투명유리의 배면에 스퍼터링 방식으로 은합금을 진공 증착하여 하프 미러를 제조하는 제3단계와, 하프 미러를 2차 세정하는 제4단계와, 하프 미러의 전면을 초자 로고, 초자 패턴, 실크, UV 패턴 인쇄방식 중 선택된 하나의 인쇄방식으로 전면 인쇄하는 제5단계와, 전면이 인쇄된 하프 미러의 배면을 실크, 실크 패턴, UV 패턴, 실크 베이스 인쇄방식 중 선택된 하나 이상의 인쇄방식으로 1도 내지 여러 도의 아이콘, 로고, 패턴, 헤어라인, 펄 베이스 중 하나 이상을 인쇄하는 제6단계 및 배면이 인쇄된 하프 미러의 배면을 백코팅(back coating) 인쇄방식으로 인쇄하는 제7단계를 포함하여 구성된다.
대표청구항
번호 청구항
6 투명유리를 세척장치에 투입하는 제1단계;
상기 세척장치에서 투입된 투명유리를 1차 세정하는 제2단계;
상기 1차 세정된 투명유리의 배면에 97.0∼99.79wt%의 Ag, 0.10∼2.89wt%의 Pd, O.10∼2.89wt%의 Cu, 0.01∼1.50wt%의 Ge으로 이루어지는 Ag-Pd-Cu-Ge계 은합금을 스퍼터링 방식으로 진공 증착하여 하프 미러를 제조하는 제3단계;
상기 은합금의 진공 증착이 완료된 하프 미러를 세척장치에서 2차 세정하는 제4단계;
상기 하프 미러의 스퍼터링되지 않은 전면을 초자 로고, 초자 패턴, 실크, UV 패턴 인쇄방식 중 선택된 하나의 인쇄방식으로 전면 인쇄하는 제5단계;
상기 전면이 인쇄된 하프 미러의 스퍼터링된 배면을 실크, 실크 패턴, UV 패턴, 실크 베이스 인쇄방식 중 선택된 하나 이상의 인쇄방식으로 1도 내지 여러 도의 아이콘, 로고, 패턴, 헤어라인, 펄 베이스 중 하나 이상을 인쇄하는 제6단계; 및
상기 제6단계에서 배면이 인쇄된 하프 미러의 배면을 백코팅(back coating) 인쇄방식으로 인쇄하는 제7단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 하프 미러를 이용한 장식유리 제조방법.
7 제6항에 있어서,
상기 스퍼터링 방식으로 은합금을 진공 증착하는 제3단계는,
투명 유리를 진공 챔버의 기판에 장착하고, 상기 진공 챔버에 자기장을 도입하는 단계;
상기 자기장이 도입된 진공 챔버에 아르곤이 포함된 기체를 공급하여 상기 진공 챔버 내의 기체의 압력이 1~5×10-3torr가 되도록 아르곤이 포함된 기체를 공급하는 단계;
상기 아르곤이 포함된 기체를 이온화하여 가속하는 단계; 및
상기 이온화된 기체가 타겟에 충격을 가해 상기 기판에 장착된 투명 유리의 배면에 은합금을 진공 증착하는 스퍼터링을 수행하는 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 하프 미러를 이용한 장식유리 제조방법.
출처 : 특허청.
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